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吉致電子JEEZ 鎢拋光液/W CMP Slurry/W 拋光液/半導(dǎo)體研磨液

 2024-03-20 |  243
  • 分類:普通磨料>新型磨料
  • 供應(yīng)商:無錫吉致電子科技有限公司
  • 規(guī)格:25kg/桶(也可依據(jù)客戶需求)
  • 價(jià)格:面議
  • 單位:千克
  • 供應(yīng)數(shù)量:1000
  • 最小起訂量:不限
  • 用途:吉致電子鎢W拋光液適用于8-12吋氧化硅鍍膜片的拋光。特選粒徑均一的SiO2水溶膠為磨料,拋光清洗后晶圓表面粗糙度低、顆粒殘留少。與國內(nèi)外同類產(chǎn)品相比,具有易清洗、表面粗糙度低等特點(diǎn).
  • 有效期:長期有效
  •   立即詢盤

詳情說明

無錫吉致電子25年研發(fā)生產(chǎn)——鎢拋光液/W CMP Slurry/W 拋光液/半導(dǎo)體研磨液/CMP拋光液/化學(xué)機(jī)械拋光液/CMP化學(xué)機(jī)械拋光液slurry/CMP集成電路拋光液

鎢W拋光液作用:吉致電子鎢W拋光液適用于8-12吋氧化硅鍍膜片的拋光。特選粒徑均一的SiO2水溶膠為磨料,拋光清洗后晶圓表面粗糙度低、顆粒殘留少。與國內(nèi)外同類產(chǎn)品相比,具有易清洗、表面粗糙度低等特點(diǎn).

我司產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn): 

1.懸浮性好,不易沉淀,使用方便。

2.顆粒分散均勻,不團(tuán)聚,軟硬度適中,有效避免拋光過程中由于顆粒團(tuán)聚導(dǎo)致的工件表面劃傷缺陷。

3.運(yùn)用拋光過程中的化學(xué)新作用,提高拋光速度,改善拋光表面的質(zhì)量。

4.分散性好、乳液均一,程度提升拋光速率的同時(shí)降低微劃傷的概率,可以提高拋光精度。

5.無粉塵產(chǎn)生,關(guān)注環(huán)保和人體健康安全。

可定制化:我們的拋光液可以根據(jù)客戶需求定制不同的PH、粒徑、濃度、穩(wěn)定離子等。

包裝方式:25KG/桶(也可依客戶需求)

吉致電子CMP拋光液/Slurry拋光液價(jià)格:

吉致電子的CMP金屬拋光液生產(chǎn)技術(shù)是引進(jìn)國外生產(chǎn)技術(shù)和設(shè)備,特殊化學(xué)配方制備而成。吉致電子拋光液品質(zhì)可以媲美進(jìn)口同類產(chǎn)品。

本土化生產(chǎn)使吉致電子CMP拋光液產(chǎn)品交貨周期快,品質(zhì)好,拋光液價(jià)格實(shí)惠親民。

吉致電子CMP拋光耗材適用范圍

吉致電子科技有限公司擁有成熟的加工工藝和先進(jìn)的生產(chǎn)設(shè)備,為不銹鋼、銅、鋁、陶瓷、導(dǎo)光板、五金產(chǎn)品、藍(lán)寶石、光學(xué)玻璃等各類拋光加工服務(wù)。為您提供可靠有效拋光解決方案!


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